শুষ্ক এচিং প্রযুক্তি হল অন্যতম গুরুত্বপূর্ণ প্রক্রিয়া। শুষ্ক এচিং গ্যাস হল সেমিকন্ডাক্টর উৎপাদনের একটি মূল উপাদান এবং প্লাজমা এচিংয়ের জন্য একটি গুরুত্বপূর্ণ গ্যাস উৎস। এর কার্যকারিতা সরাসরি চূড়ান্ত পণ্যের গুণমান এবং কর্মক্ষমতাকে প্রভাবিত করে। এই নিবন্ধটি মূলত শুষ্ক এচিং প্রক্রিয়ায় সাধারণত ব্যবহৃত এচিং গ্যাসগুলি ভাগ করে নেয়।
ফ্লোরিন-ভিত্তিক গ্যাস: যেমনকার্বন টেট্রাফ্লোরাইড (CF4), হেক্সাফ্লুরোইথেন (C2F6), ট্রাইফ্লুরোমিথেন (CHF3) এবং পারফ্লুরোপ্রোপেন (C3F8)। সিলিকন এবং সিলিকন যৌগগুলিকে খোদাই করার সময় এই গ্যাসগুলি কার্যকরভাবে উদ্বায়ী ফ্লোরাইড তৈরি করতে পারে, যার ফলে উপাদান অপসারণ সম্ভব হয়।
ক্লোরিন-ভিত্তিক গ্যাস: যেমন ক্লোরিন (Cl2),বোরন ট্রাইক্লোরাইড (BCl3)এবং সিলিকন টেট্রাক্লোরাইড (SiCl4)। ক্লোরিন-ভিত্তিক গ্যাসগুলি এচিং প্রক্রিয়ার সময় ক্লোরাইড আয়ন সরবরাহ করতে পারে, যা এচিং হার এবং নির্বাচনীতা উন্নত করতে সাহায্য করে।
ব্রোমিন-ভিত্তিক গ্যাস: যেমন ব্রোমিন (Br2) এবং ব্রোমিন আয়োডাইড (IBr)। ব্রোমিন-ভিত্তিক গ্যাসগুলি নির্দিষ্ট কিছু এচিং প্রক্রিয়ায়, বিশেষ করে সিলিকন কার্বাইডের মতো শক্ত পদার্থ এচিং করার সময়, উন্নত এচিং কর্মক্ষমতা প্রদান করতে পারে।
নাইট্রোজেন-ভিত্তিক এবং অক্সিজেন-ভিত্তিক গ্যাস: যেমন নাইট্রোজেন ট্রাইফ্লোরাইড (NF3) এবং অক্সিজেন (O2)। এই গ্যাসগুলি সাধারণত এচিং প্রক্রিয়ায় বিক্রিয়ার অবস্থা সামঞ্জস্য করতে ব্যবহৃত হয় যাতে এচিংয়ের নির্বাচনীতা এবং দিকনির্দেশনা উন্নত হয়।
এই গ্যাসগুলি প্লাজমা এচিংয়ের সময় ভৌত স্পুটারিং এবং রাসায়নিক বিক্রিয়ার সংমিশ্রণের মাধ্যমে উপাদানের পৃষ্ঠের সুনির্দিষ্ট এচিং অর্জন করে। এচিং গ্যাসের পছন্দ নির্ভর করে কোন ধরণের উপাদান খোদাই করা হবে, এচিংয়ের নির্বাচনী প্রয়োজনীয়তা এবং পছন্দসই এচিং হারের উপর।
পোস্টের সময়: ফেব্রুয়ারী-০৮-২০২৫
